Graduada em Direito pela Universidade Federal do Rio de Janeiro – UFRJ e Pós-graduada em Direito da Propriedade Intelectual pela Pontifícia Universidade Católica do Rio de Janeiro – PUC-Rio, sendo especialista na área.
Concluiu diversos cursos na Organização Mundial da Propriedade Intelectual – OMPI, a exemplo do curso do curso de verão ‘Brasil em propriedade intelectual no ambiente digital’ (2022), do ‘Curso Avançado em Direitos Autorais e Direitos Conexos’ DL – 201 (2021) e do ‘Curso Geral de Propriedade Intelectual’ DL – 101 (2020).
Pela Associação Brasileira da Propriedade Intelectual – ABPI, concluiu o curso de ‘Extensão em Direito da Arte’ (2021).
Na Fundação Getúlio Vargas – FGV, concluiu a extensão em ‘Contencioso Estratégico’, em 2025, além do ‘Concentrado de Propriedade Intelectual’, no ano de 2018.
Também em 2025, concluiu o ‘Curso de Processo Civil Aplicado à Propriedade Intelectual’, organizado pela Associação Paulista da Propriedade Intelectual – ASPI.
Exerceu a função de Parecerista em temas voltados ao Direito Público em diversas Procuradorias, a exemplo da Procuradoria do Município de Nova Iguaçu, da Procuradoria do Instituto Estadual do Ambiente – INEA, do Departamento de Transportes Rodoviários do Estado do Rio de Janeiro – DETRO-RJ e da Secretaria de Estado do Ambiente e Sustentabilidade – SEAS-RJ. Também atuou como Parecerista voltada aos temas da Lei de Incentivo à Cultura.
Desde setembro de 2021 é advogada no Escritório Newton Silveira Wilson Silveira e Associados – Advogados, atuando na Área de Propriedade Intelectual, tanto no consultivo quanto no contencioso, através da elaboração de peças processuais, recursos, pareceres, notificações judiciais e extrajudiciais, contratos, licenças, relatórios, orientação e assessoria jurídica, com foco no Direito das Marcas e no Direito do Autor.
E-mail: ludmila.figueira@silveira.com.br